ЗАО Дифракция изготавливает заказные фотошаблоны, маски, решётки, шкалы, сетки, лимбы, растры и т.п.
Назначение:
Оптические маски, решетки, шкалы, сетки, растры и т.п. представляют собой плоскопараллельные стеклянные пластинки с нанесенными на них металлизированными рисунками (обычно в виде тонкой пленки хрома). По своему назначению их можно разделить на следующие группы:
Визирные и специальные сетки (калибры, марки, растры и т.д.).
Лимбы для углоизмерительных устройств.
Измерительные решетки, линейные и круговые шкалы.
Фотошаблоны линз Френеля, дифракционные решетки, микролинзовые растры, гомогенизаторы и т.п.
Изготовление:
Оригиналы высокоточных изделий изготавливаются методом прямой лазерной записи на прецизионном оборудовании с интерференционным контролем. В качестве подложек используются оптические пластины с клином < 1-2" и плоскостностью 0.1λ.
Копии изделий изготавливаются методом контактной фотолитографии с использованием стандартных хромированных фотошаблонов 102×102мм или 127×127мм.
Прецизионные фотошаблоны для испытаний и аттестации погрешности оптико-механического и контрольно-измерительного оборудования (отсчётные сетки, визирные шкалы, тест-объекты)
Материал подложки
Оптическое стекло, кварц, ситалл
Размер подложки
до 153х153 мм (∅ 210 мм)
Топология
Произвольная, описанная в pcx, png, bmp или dwg форматах
Погрешность расположения
элементов топологии на поле (СКО)
В поле ∅ 150 мм - 0.3 мкм
В поле ∅ 100 мм - 0,2мкм
Кольцевые структуры в поле ∅ 200 мм - 0,05мкм
Минимальный элемент на поле
1 мкм
Покрытие
Хром
Решетки и миры линейные, радиальные, кольцевые
Материал подложки
Оптическое стекло, кварц, ситалл
Изображение
Светлое или тёмное поле
Размер подложки
до 150х150 мм (∅ 210 мм)
Топология
Произвольная, описанная в pcx, png, bmp или dwg форматах
Погрешность расположения
элементов топологии на поле (СКО)
В поле ∅ 150 мм - 0.3 мкм
В поле ∅ 100 мм - 0,2мкм
Кольцевые структуры в поле ∅ 200 мм - 0,05мкм
Минимальный элемент на поле
1 мкм
Покрытие
Хром
Лимбы, кодовые диски, угловые шкалы
Материал подложки
Оптическое стекло, плавленый кварц, ситалл
Изображение
Светлое или тёмное поле
Размер подложки
до ∅ 230 мм, толщина до 24 мм
Топология
Произвольная, описанная в txt, png, pcx, bmp или dwg форматах
Погрешность расположения
элементов топологии на поле (СКО)
Радиальная 0,05 мкм
Угловая
1 угл. сек
Минимальный элемент на поле
1 мкм
Количество радиальных штрихов
<0.5×06 на радиусе 100 мм
Неровность края (СКО)
< 0.1 мкм
Материал покрытия
Хром или рельеф
Различные микроизображения на фотошаблонах
Пример фотошаблона угловой шкалы и полутонового растра