Тел./Факс: (383) 332-50-60
Тел.: (383) 333-30-91
E-mail: info@diffraction.ru
РУС
ENG

Яндекс.Метрика

Главная Продукция и услуги Дифракционные оптические элементы и синтезированные голограммы

Дифракционные оптические элементы и синтезированные голограммы

Дифракционные оптические элементы (ДОЭ) –– это оптические подложки с амплитудными и/или фазовыми дифракционными структурами на одной из поверхностей, рассчитанные с помощью компьютера и изготовленные методом прецизионной лазерной или электронно-лучевой литографии.

Точность изготовления дифракционных структур на пластинках диаметром до 230 мм составляет 50 нм. Применяемая нами технология позволяет создавать дифракционные структуры непосредственно на покрытых хромом подложках с помощью лазерного пучка. Для создания фазового рельефа на поверхности оптических подложек используется процесс реактивного ионного травления.

ЗАО «ДИФРАКЦИЯ» изготавливает по заказу следующие типы дифракционных элементов:

1. Осесимметричные ДОЭ с амплитудным пропусканием или отражением

Размеры подложки, D Диаметр D < 230 мм
Толщина L=1...24 мм
Материал подложки Оптическое стекло, плавленый кварц, ситал и т.д.
Световой диаметр, Dсв 90%
Материал амплитудной структуры Хром, толщина 40-50 нм
Минимальная ширина структуры, dmin 0.6 мкм
Минимальный период структуры, T 1.2 мкм
Погрешность структуры относительно центра, δ <50 нм
Погрешность волнового фронта, ΔW * Не хуже λ/20 (PV), λ/100 rms

*- без учета плоскостности подложки для ДОЭ с T>2 мкм

2. Осесимметричные ДОЭ с бинарным фазовым рельефом

Размеры подложки, D Диаметр D =< 230 мм
Толщина L=1...24 мм
Материал подложки Плавленый кварц
Световой диаметр, Dсв 90%
Глубина рельефа, h 0.1...3 мкм
Минимальная ширина структуры, dmin 1 мкм
Минимальный период структуры, T 2 мкм
Погрешность структуры относительно центра, δ <50 нм
Погрешность волнового фронта, ΔW * Не хуже λ/10 (PV), λ/100 rms

*- без учета плоскостности подложки для ДОЭ с T>4 мкм

3. ДОЭ с произвольной структурой с амплитудным пропусканием или бинарным фазовым рельефом

Размеры подложки, D Диаметр D < 230 мм
Толщина L=1...24 мм
Материал подложки * Оптическое стекло, плавленый кварц, ситал, и т.д.
Световой диаметр, Dсв 90%
Глубина рельефа, h 0.1...3 мкм
Материал амплитудной структуры Хром, толщина 40-50 нм
Минимальная ширина структуры, dmin 2.5 мкм
Минимальный период структуры, T 5 мкм
Погрешность структуры относительно центра, δ <0.25 мкм
Погрешность волнового фронта, ΔW * Не хуже λ/10 (PV), λ/100 rms

*- рельефные элементы изготавливаются в плавленом кварце и кремнии.

**- без учета плоскостности подложки для ДОЭ с T>10 мкм

4. ДОЭ с непрерывным рельефом

Размеры подложки, D Диаметр D < 100 мм
Толщина L=1...10 мм
Материал подложки Плавленый кварц
Световой диаметр, Dсв 90%
Глубина пилообразного рельефа, h 0.1...3 мкм
Минимальный период структуры, T 5 мкм
Погрешность структуры относительно центра, δ <0.25 мкм

5. Микролинзовые растры

Размеры подложки, D Диаметр D = 10...100 мм
Толщина L=1...10 мм


Материал подложки Плавленый кварц
Размер микролинз От 10×10 мкм до 5×5 мм
Форма профиля Осевые, внеосевые, сферические, асферические, свободной формы
Коэффициент заполнения До 100%
Числовая апертура линз, NA NA < 0.25
Рабочая длина волны, λ В диапазоне 0.2 — 5 мкм
Дифракционная эффективность * < 80%
   

*- для линз с NA < 0.15 и λ > 630нм.

 
ЗАО ДИФРАКЦИЯ, 630090, Новосибирск, ул. Мусы Джалиля, 15 © 2011 Copyright, ЗАО «Дифракция»